| 激光等离子体软X射线接近式光刻术初步研究 |
| |
| 引用本文： | 郭玉彬 李加. 激光等离子体软X射线接近式光刻术初步研究[J]. 光学学报, 1995, 15(3): 13-319 |
| |
| 作者姓名： | 郭玉彬 李加 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械研究所，应用光学国家重点实验室，中国科学院长春物理研究所 |
| |
| 摘 要： | 描述了用高功率脉冲激光打靶产生的等离子体作为软Ｘ射线源而进行的接近式软Ｘ射线光刻研究，采用负性辐射线光刻胶聚氯甲基苯乙烯，得到了一些新的实验结果。
|
| 关 键 词： | 软X射线 激光 等离子体 光刻术 |
| 收稿时间： | 1994-03-02 |
Preliminary Study of Laser Soft X-Ray Approach Lithography |
| |
| Guo Yubin, Li Futian, Tang Jiuhua. Preliminary Study of Laser Soft X-Ray Approach Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 1995, 15(3): 13-319 |
| |
| Authors: | Guo Yubin Li Futian Tang Jiuhua |
| |
| Abstract: | Using high- power pulsed laser- produced plasma as soft X- ray source for approach lithography is described in this paper. By applying negative resist PCMS, some new experimental results are obtained. |
| |
| Keywords: | soft X-ray laser-produced plasma lithography resist |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
