| 193-nm光刻中的光致抗蚀剂 |
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| 引用本文： | 陈明,陈其道,洪啸吟.193-nm光刻中的光致抗蚀剂[J].影像科学与光化学,2000,18(1):77-84. |
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| 作者姓名： | 陈明 陈其道 洪啸吟 |
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| 作者单位： | 清华大学化学系, 北京100084 |
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| 摘 要： | 当今世界处于信息时代,电子信息产业日新月异地飞速发展着,计算机的影响已遍及每一个经济领域和人们生活的每一个方面.微电子技术作为新技术革命的主角,已成为衡量一个国家经济实力和科技进步的重要标志1,2].微电子技术的不断发展得益于半导体与集成技术的不断提高,光刻技术和光致抗蚀剂是微电子技术中的核心技术和关键材料.
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| 关 键 词： | 193-nm 化学增幅抗蚀剂 光刻 光敏产酸物 |
| 收稿时间： | 1999-06-01 |
Photoresist in 193-nm Photolithography |
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| CHEN Ming,CHEN Qidao,HONG Xiaoyin.Photoresist in 193-nm Photolithography[J].Imaging Science and Photochemistry,2000,18(1):77-84. |
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| Authors: | CHEN Ming CHEN Qidao HONG Xiaoyin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | |
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