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甲烷氧化偶联Mn_2O_3-Na_2WO_4/SiO_2催化剂——Ⅲ.高温(700—800℃)XRD和XPS研究
引用本文:蒋致诚,方学平,于长江,李树本.甲烷氧化偶联Mn_2O_3-Na_2WO_4/SiO_2催化剂——Ⅲ.高温(700—800℃)XRD和XPS研究[J].分子催化,1992(6).
作者姓名:蒋致诚  方学平  于长江  李树本
作者单位:中国科学院兰州化学物理研究所,中国科学院兰州化学物理研究所,中国科学院兰州化学物理研究所,中国科学院兰州化学物理研究所 兰州 730000,兰州 730000,兰州 730000,兰州 730000
摘    要:在本工作的研究报导Ⅰ和Ⅱ(见本期477页和481页)中,已对Mn_2O_3-Na_2WO_4/SiO_2催化剂活性相的表面分散状态、表面氧种和表面结构进行了详细表征。但甲烷氧化偶联反应在高温(700—800℃)下进行。本文进一步对该催化剂在此反应高温下的XRD和XPS研究表明,其表面状态较室温下有显著变化,结合前文的室温下表征结果,使我们对高温反应条件下该催化剂组分间协同作用、表面活性氧种和活性位结构性质有了进一步的理解,并有可能对其甲烷催化活化机理进行较为深入的探讨。

关 键 词:甲烷氧化偶联  Na_2WO_4/SiO_2催化剂  甲烷活化机理  高温XPS/XRD
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