掺钕三硼酸铋晶体(Nd:BiB3O6)的光谱性质 |
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引用本文: | 江怀东,滕冰,王继扬,胡小波,刘宏,张承乾.掺钕三硼酸铋晶体(Nd:BiB3O6)的光谱性质[J].中国科学B辑,2001,31(5):428-432. |
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作者姓名: | 江怀东 滕冰 王继扬 胡小波 刘宏 张承乾 |
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作者单位: | 江怀东(山东大学晶体材料国家重点实验室济南250100);滕冰(山东大学晶体材料国家重点实验室济南250100);王继扬(山东大学晶体材料国家重点实验室济南250100);胡小波(山东大学晶体材料国家重点实验室济南250100);刘宏(山东大学晶体材料国家重点实验室济南250100);张承乾(山东大学晶体材料国家重点实验室济南250100) |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(批准号:59823003) |
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摘 要: | 采用顶部籽晶法, 生长了掺钕的新型非线性光学晶体Nd:BiB3O6 , 测量了该晶体的折射率, 并拟合了晶体的折射率色散参数. 同时还测量了晶体的室温吸收谱, 并与0.2 mol/L的 NdCl3溶液的室温吸收谱进行了分析比较. 根据Judd-Ofelt理论, 拟合出晶体场唯象强度参数: Ω 2 = 0.1776 ´ 10-20 , Ω 4 = 0.1282 ´ 10-20, Ω 6 = 0.1357 ´ 10-20cm2. 计算了各能级的辐射跃迁几率AJ,J', 荧光辐射寿命τ , 荧光分支比βJ', 振子强度fJ,J'等. 根据这些光学参量, 讨论了该晶体的部分性能和应用前景.
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关 键 词: | Judd-Ofelt理论 光谱参数 Nd:BiB3O6晶体 |
收稿时间: | 2001-03-21 |
修稿时间: | 2001年3月21日 |
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