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| 利用光散射特性研究光学表面中瑞利缺陷粒子的方位诊断 | |
| 引用本文： | 巩蕾,吴振森,潘永强. 利用光散射特性研究光学表面中瑞利缺陷粒子的方位诊断[J]. 光子学报, 2014, 43(8): 831003 |
| 作者姓名： | 巩蕾 吴振森 潘永强 |
| 作者单位： | 巩蕾:西安工业大学 光电工程学院, 西安 710032 吴振森:西安电子科技大学 物理与光电工程学院, 西安 710071 潘永强:西安工业大学 光电工程学院, 西安 710032 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(Nos. 61308071, 61172031)、陕西省自然科学基金资助项目(No.2013JQ8018)和陕西省教育厅自然科学专项资助项目(Nos. 2013JK0633, 2013JK1108)、陕西省光电测试与仪器技术重点实验室开放基金资助 |
| 摘 要： | 基于偏振双向反射分布函数,从理论上推导了瑞利缺陷粒子分别位于光学表面上方和基底内部的散射场,研究了光学表面瑞利缺陷粒子的方位诊断问题.通过对不同波长下冗余缺陷粒子位于不同方位时双向反射分布函数pp项的分析与讨论实现对缺陷位置的初步判断.结果表明,SiO2瑞利缺陷粒子位于裸基底上方时,双向反射分布函数pp项受波长影响的敏感程度远大于位于SiO2涂覆上方时,可以通过测量缺陷粒子对波长变化的敏感程度判断缺陷粒子的大致方位;当缺陷粒子在Si基底下方时,方位角的凹痕出现在85°到90°之间,当缺陷粒子在SiO2涂层下方时,方位角的凹痕出现在70°左右,因此,可以根据方位角凹痕位置的不同实现对缺陷粒子方位的进一步诊断. |
| 关 键 词： | 光散射 方位诊断 偏振双向反射分布函数 光学表面 瑞利粒子 |
| 收稿时间： | 2013-11-07 |
The Diagnosis of Rayleigh Defect Particle Position by Light Scattering Character on the Optical Surface |
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| Abstract: | |
| Keywords: | Light scattering Position diagnosis PBRDF Optical surface Rayleigh particle |
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