| 基片温度对坡莫合金薄膜结构和磁电阻的影响 |
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| 引用本文： | 王凤平,刘还平,吴平,潘礼庆,邱宏,田跃,罗胜.基片温度对坡莫合金薄膜结构和磁电阻的影响[J].发光学报,2003,24(4):435-437. |
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| 作者姓名： | 王凤平 刘还平 吴平 潘礼庆 邱宏 田跃 罗胜 |
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| 作者单位： | 北京科技大学,物理系,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(19974005) |
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| 摘 要： | 用磁控溅射方法制备了系列坡莫合金Ni80Fe20薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜和原子力显徽镜分析了薄膜的结构、晶粒取向、薄膜厚度、截面结构和表面形态。用4点探测技术测量了薄膜的电阻和磁电阻。结果表明：随衬底温度的升高，晶粒明显长大。膜内的缺陷和应力显著减小，而且增强了薄膜晶粒的111]择优取向。结果表明，薄膜电阻率显著减小，而磁电阻显著增大。
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| 关 键 词： | 坡莫合金薄膜 结构 磁电阻 基片温度 磁控溅射 |
| 文章编号： | 1000-7032(2003)04-0435-03 |
| 修稿时间： | 2002年8月12日 |
Effect of Substrate Temperature on the Structure and Magnetoresistance of Permalloy Films |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | permalloy film magnetron sputtering structure magnetoresistance |
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