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超精密环行抛光技术
引用本文:杨李茗,曹冲,王岚.超精密环行抛光技术[J].工程物理研究院科技年报,2003(1):211-211.
作者姓名:杨李茗  曹冲  王岚
摘    要:在大口径超精密平面光学元件加工中,环抛是一种重要的抛光技术,作为古典抛光的一种改进工艺,它在光学加工中得到了广泛的应用。但是它目前还存在着一些问题:对操作者的经验依赖太强,加工效率不高,加工质量也不稳定。根本原因是人们对抛光磨削的规律还认识不够,尤其是—些工艺参数的影响。

关 键 词:精密环行抛光  光学元件  加工效率  质量控制  工艺参数
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