| 溅射压强对掺钛氧化锌纳米薄膜微结构和光电性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 陈真英,黄文华,李丽夏,黄宇阳,邓文.溅射压强对掺钛氧化锌纳米薄膜微结构和光电性能的影响[J].人工晶体学报,2015,44(12):3565-3570. |
| |
| 作者姓名： | 陈真英 黄文华 李丽夏 黄宇阳 邓文 |
| |
| 作者单位： | 广西大学物理科学与工程技术学院,南宁530004;广西大学行健文理学院,南宁530004;广西大学物理科学与工程技术学院,南宁,530004 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(11265002);广西自然科学重点基金(2010GXNSFD013036);广西大学行健文理学院科研基金(2014ZKLX01) |
| |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法,采用不同的溅射压强将同一掺钛氧化锌靶材在普通玻璃衬底上溅射出八个TZO(掺钛氧化锌)薄膜样品,测试其微结构和光电性能,分析其薄膜性能与溅射压强之间的微观机理,从而获得制备性能优越的TZO薄膜所需的最佳溅射压强.结果表明:所有样品均为具有c轴择优取向的六角铅锌矿多晶纳米薄膜;溅射压强对薄膜微结构和光电性能有显著的影响;溅射功率为150 W,氩气流量为25 sccm,衬底温度为150℃,压强为0.5 Pa时制备的薄膜光电性能较好,具有较大晶粒尺寸,在可见光区(400 ～ 760 nm)有较高的平均透过率达91.48;,较低电阻率4.13×10-4 Ω·cm,较高的载流子浓度和较大迁移率.
|
| 关 键 词： | 掺钛氧化锌薄膜 磁控溅射 溅射压强 光电性能 |
Influence of Sputtering Pressure on the Microstructure and Optoelectronic Properties of the Ti-doped Zinc Oxide(TZO) Nano-films |
| |
| CHEN Zhen-ying,HUANG Wen-hua,LI Li-xia,HUANG Yu-yang,DENG Wen.Influence of Sputtering Pressure on the Microstructure and Optoelectronic Properties of the Ti-doped Zinc Oxide(TZO) Nano-films[J].Journal of Synthetic Crystals,2015,44(12):3565-3570. |
| |
| Authors: | CHEN Zhen-ying HUANG Wen-hua LI Li-xia HUANG Yu-yang DENG Wen |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
|
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《人工晶体学报》下载免费的PDF全文 |
|
