| 硒化锌的化学机械抛光研究 |
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| 引用本文： | 吴传超,安永泉,王志斌,杨常青,张瑞.硒化锌的化学机械抛光研究[J].人工晶体学报,2015,44(1):61-65. |
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| 作者姓名： | 吴传超 安永泉 王志斌 杨常青 张瑞 |
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| 作者单位： | 山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原,030051;山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051;中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室,太原030051 |
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| 基金项目： | 国际科技合作项目(2013DFR10150) |
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| 摘 要： | 采用化学机械抛光(CMP)的方法,自制抛光液作为研磨介质,对(50×50×1.5)mm3硒化锌(ZnSe)晶片抛光.通过分析抛光液的pH值、抛光盘转速、抛光液的磨料浓度、压力、抛光时间和抛光液流量等参数对CMP的影响,组合出最佳工艺参数,并通过原子力显微镜和平晶测试方法对最佳工艺参数获得的ZnSe晶片进行测试,实验结果显示,ZnSe晶片抛光后的表面粗糙度Ra为0.578 nm,平面面形误差小于1.8 μm.
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| 关 键 词： | ZnSe晶片 化学机械抛光 表面粗糙度 |
Study on the Chemical Mechanical Polishing of ZnSe |
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| WU Chuan-chao,AN Yong-quan,WANG Zhi-bin,YANG Chang-qing,ZHANG Rui.Study on the Chemical Mechanical Polishing of ZnSe[J].Journal of Synthetic Crystals,2015,44(1):61-65. |
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| Authors: | WU Chuan-chao AN Yong-quan WANG Zhi-bin YANG Chang-qing ZHANG Rui |
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