| MPCVD生长单晶金刚石及发射光谱分析 |
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| 引用本文： | 吴超,马志斌,高攀,黄宏伟,付秋明,王传新.MPCVD生长单晶金刚石及发射光谱分析[J].人工晶体学报,2015,44(10):2734-2738. |
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| 作者姓名： | 吴超 马志斌 高攀 黄宏伟 付秋明 王传新 |
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| 作者单位： | 武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉430073 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(10875093) |
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| 摘 要： | 在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)生长单晶金刚石过程中,测量了近衬底附近等离子体发射光谱(OES),研究了甲烷浓度对等离子体中基团谱峰强度的影响,分析了等离子体中基团谱峰相对强度与金刚石生长速率、质量的关系.利用激光拉曼光谱(Raman)和扫描电镜(SEM)对生长之后的单晶金刚石进行表征.结果表明:随着甲烷浓度的提高,Hα基团谱峰几乎不变,C2、Hβ、Hγ和CH基团谱峰强度均增加,而C2基团增加显著.同时,基团谱峰相对强度比值I(Hγ)/I(Hβ)、I(C2)/I(CH)和I(C2)/I(Hα)也都随着甲烷浓度的提高而增加.I(C2)/I(CH)比值的升高不利于单晶金刚石的生长.生长速率测试表明,单晶金刚石的生长速率随I(C2)/I(Hα)比值的增大而增加,当I(C2)/I(Hα)小于0.35时,生长速率呈现指数快速增加,超过这个值之后,增长趋势变缓,生长速率呈线性增加.
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| 关 键 词： | 微波等离子体化学气相沉积 单晶金刚石 发射光谱 甲烷浓度 |
Growth and Emission Spectra Analysis of Single Crystal Diamond by MPCVD |
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| WU Chao,MA Zhi-bin,GAO Pan,HUANG Hong-wei,FU Qiu-ming,WANG chuan-xin.Growth and Emission Spectra Analysis of Single Crystal Diamond by MPCVD[J].Journal of Synthetic Crystals,2015,44(10):2734-2738. |
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| Authors: | WU Chao MA Zhi-bin GAO Pan HUANG Hong-wei FU Qiu-ming WANG chuan-xin |
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