锡青铜上MoS_2擦涂膜磨损轨迹的考察 |
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作者姓名: | 赵家政 齐尚奎 孙喜天 党鸿辛 |
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作者单位: | 中国科学院兰州化学物理研究所(赵家政,齐尚奎,孙喜天),中国科学院兰州化学物理研究所(党鸿辛) |
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摘 要: | 用多功能电子能谱仪和扫描电镜初步研究了锡青铜盘上MoS_2擦涂膜和45号钢栓的磨损轨迹。结果表明,在摩擦过程中MoS_2中的硫与底材发生了化学反应并生成SnS、Cu_2S、FeS。这些硫化物有利于MoS_2膜与底材间的粘附和润滑。並得到了表面形貌、表面组成、表面元素的价态和深度分布等多种资(?)。
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