| 非真空密闭条件下的Ce3+: LiYF4晶体生长 |
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| 引用本文： | 徐方,方奇术,王苏静,武安华,蒋成勇,陈红兵.非真空密闭条件下的Ce3+: LiYF4晶体生长[J].人工晶体学报,2009,38(4):813-817. |
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| 作者姓名： | 徐方 方奇术 王苏静 武安华 蒋成勇 陈红兵 |
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| 作者单位： | 宁波大学材料科学与工程研究所,宁波市新型功能材料及其制备科学国家重点实验室培育基地,宁波,315211;中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050 |
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| 基金项目： | 宁波市自然科学基金项目，浙江省高校中青年学科带头人项目，宁波大学王宽诚幸福基金 |
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| 摘 要： | 本文报道了氟化物激光晶体Ce3+: LiYF4的坩埚下降法生长工艺.以高纯氟化物LiF、YF3和CeF3为初始试剂,按照LiF: YF3: CeF3 = 51.5: 47.5: 1.0的物质的量比配料,经高温氟化处理合成严格无水的Ce3+: LiYF4多晶料.将Ce3+: LiYF4多晶料密封于铂坩埚中,添加少量聚四氟乙烯粉末,可避免氟化物熔体的氧化与挥发,从而在非真空条件下实现Ce3+: LiYF4晶体的坩埚下降法生长,成功生长出尺寸达28 mm×70 mm的无色透明完整单晶.采用XRD、差热/热重分析、透射光谱和荧光光谱对Ce3+: LiYF4单晶基本性质的进行表征.结果表明,该晶体在320~3000 nm区域内的光透过率达90;以上,晶体在297 nm处有一强吸收峰;荧光光谱显示晶体在紫外光区310 nm、325 nm处有两个强发射峰.
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| 关 键 词： | 激光晶体 Ce3+:LiYF4 氟化处理 晶体生长 坩埚下降法 |
Growth of Ce~(3+):LiYF_4 Crystal under Non-vacuum Closed Atmosphere |
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| XU Fang,FANG Qi-shu,WANG Su-jing,WU An-hua,JIANG Cheng-yong,CHEN Hong-bing.Growth of Ce~(3+):LiYF_4 Crystal under Non-vacuum Closed Atmosphere[J].Journal of Synthetic Crystals,2009,38(4):813-817. |
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| Authors: | XU Fang FANG Qi-shu WANG Su-jing WU An-hua JIANG Cheng-yong CHEN Hong-bing |
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| Institution: | 1.State Key Base of Functional Materials & Its Preparation Science;Institute of Materials Science & Engineering;Ningbo University;Ningbo 315211;China;2.Shanghai Institute of Ceramics;Chinese Academy of Sciences;Shanghai 200050;China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ce3+:LiYF4 |
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