合肥国家同步辐射实验同就辐射光刻研究 |
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引用本文: | 胡一贯.合肥国家同步辐射实验同就辐射光刻研究[J].物理,1996,25(2):111-114. |
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作者姓名: | 胡一贯 |
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摘 要: | 同步辐射光刻技术是X射线光刻技术的重要发展,适用于深亚微米乃至纳米图形的超微细加工,特别是LIGA的出现大大拓展了同步辐射光刻的应用领域,使它不仅适合于超大规模集成电路等平面微结构的加工,也适合于具有复杂构造的三维立体结构和器件的制作,文章简要介绍了NSRL光刻光束线和实验站概况及研究工作进展。
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关 键 词: | X射线 光刻 同步辐射 纳米 超微细加工 |
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