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| 曝光剂量与体布喇格光栅衍射特性的研究 | |
| 引用本文： | 熊宝星,张桂菊,邹快盛.曝光剂量与体布喇格光栅衍射特性的研究[J].光子学报,2018(7). |
| 作者姓名： | 熊宝星 张桂菊 邹快盛 |
| 作者单位： | 苏州大学物理与光电能源学部 |
| 摘 要： | 采用分振幅双光束干涉法和"二步法"热处理工艺,在光热敏折变微晶玻璃中制备了周期2.1μm的透射型体布喇格光栅,研究了不同曝光剂量与光栅衍射效率和角度选择性之间的关系.当曝光剂量逐渐增至为0.6J/m~2时,光栅的衍射效率最高达80.02%;随着曝光剂量的继续增加,光栅的衍射效率逐渐下降,并最终保持稳定.当曝光剂量达到1.5J/cm~2及以上时,光栅对测试光的吸收变化小于5%,此时光栅的衍射效率趋于稳定.曝光剂量的变化对光栅角度选择性没有明显的影响.分析结果表明随着曝光剂量增大,光栅中的含银胶团对532nm测试光的吸收加剧,从而使透过的衍射光强减弱,出现衍射效率降低的现象. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |