CHBr薄膜制备的初步研究 |
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引用本文: | 冯建鸿,黄勇,吴卫东.CHBr薄膜制备的初步研究[J].工程物理研究院科技年报,2004(1):71-72. |
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作者姓名: | 冯建鸿 黄勇 吴卫东 |
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摘 要: | 碳氢(cH)及其掺杂材料常被用作ICF实验靶丸烧蚀层材料。制备CH薄膜及其掺杂材料的方法有很多,诸如:离子束辅助沉积、离子溅射沉积、低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)等。近年来,详细研究了LPPCVD法制备CH薄膜的制备方法与工艺,形成了比较成熟的技术路线与工艺路线,并为“神光”实验提供了一系列实验靶丸。
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关 键 词: | 薄膜制备 等离子体化学气相沉积 离子束辅助沉积 ICF实验 掺杂材料 CH薄膜 工艺路线 PCVD法 |
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