多层膜聚光镜对Schwarzschild显微镜成像均匀性的影响 |
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引用本文: | 王新, 穆宝忠, 黄怡, 等. 多层膜聚光镜对Schwarzschild显微镜成像均匀性的影响[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(05). |
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作者姓名: | 王新 穆宝忠 黄怡 翟梓融 伊圣振 蒋励 朱京涛 王占山 刘红杰 曹磊峰 谷渝秋 |
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作者单位: | 1.同济大学 物理系, 精密光学工程技术研究所, 上海 200092;;;2.上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室, 上海 200092;;;3.中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621 900 |
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摘 要: | 提出了利用多层膜聚光镜提高Schwarzschild显微镜成像均匀性的方法。设计了聚光镜的光学结构,使80%的等离子体辐射能量会聚在约0.8 mm直径的范围内。根据成像系统的工作波长和光线在聚光镜表面的入射角度,设计了Mo/Si周期多层膜,制备了聚光镜光学元件,膜层周期厚度为9.64 nm,周期数为30,对18.2 nm波长的峰值反射率为51.7%。利用所设计的聚光镜作为照明系统,对Schwarzschild物镜进行了网格成像实验。结果表明:在1.2 mm视场内可以实现2.5 μm的空间分辨力,并且完全消除了物镜中心遮拦所造成的像面光强分布不均匀性。
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关 键 词: | Schwarzschild显微镜 激光等离子体 聚光镜 Mo/Si多层膜 空间分辨力 |
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