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利用氢等离子体预处理实现对GaAs的光滑的反应性离子蚀刻

引用本文：	张殿莉.利用氢等离子体预处理实现对GaAs的光滑的反应性离子蚀刻[J].等离子体应用技术快报,1996(6):4-5.

作者姓名：	张殿莉

摘要：
关键词：	预处理砷化镓等离子体蚀刻
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