| 基于槽形函数拟合的刻划光栅衍射特性分析方法 |
| |
| 作者姓名： | 巴音贺希格 朱洪春 |
| |
| 作者单位： | (1)中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春 130033; (2)中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春 130033;中国科学院研究生院,北京 100049 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;中国科学院"优秀博士学位论文、院长奖学金获得者"科研启动专项资金;国家科技支撑计划重大项目 |
| |
| 摘 要： | 作为对光栅刻划工艺的理论指导,提出了一种基于槽形函数拟合的机械刻划光栅衍射特性分析方法,解决了高刻线密度光栅衍射效率测量值与理论值偏差较大的问题.以刻线密度为1200l/mm的紫外光栅为例,对光栅主截面上的实际槽形纵横坐标扫描取值,进而拟合出槽形函数,经理论计算找到了导致衍射效率偏低的原因,并通过改进工艺,使光栅衍射效率提高了约20%.
关键词：
刻划光栅
槽形函数拟合
衍射特性
分析方法
|
| 关 键 词： | 刻划光栅 槽形函数拟合 衍射特性 分析方法 |
| 文章编号： | 1000-3290/2007/56(07)/3893-07 |
| 收稿时间： | 2006-08-30 |
| 修稿时间： | 2006-08-30 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
