| 激光诱导击穿光谱在薄膜损伤分析中的应用 |
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| 作者姓名： | 葛锦蔓 苏俊宏 徐均琪 陈磊 吕宁 吴慎将 |
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| 作者单位： | 1. 南京理工大学 电子工程与光电技术学院,南京210094;西安工业大学 光电工程学院,西安710021;2. 西安工业大学 光电工程学院,西安,710021;3. 南京理工大学 电子工程与光电技术学院,南京,210094 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(Nos.61378050;61205155)和科技部国际科技合作项目(No.2013DFR70620)资助,The National Natural Science Foundation of China (Nos.61378050 |
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| 摘 要： | 提出了应用激光诱导击穿光谱技术对薄膜损伤特性进行表征的方法,研究了纳秒脉冲激光作用下薄膜损伤时的等离子体光谱特征,并应用该技术对薄膜的抗激光损伤特性进行了测量.实验测得,HfO2单层膜在78mJ的激光能量的辐照下,薄膜损伤时的等离子体温度为2 807.4K,且电子密度为7.4×1017cm-3.利用识别薄膜损伤时的等离子体光谱的特征,准确地判断了薄膜是否损伤,避免了薄膜损伤的误判现象.结果表明,激光诱导击穿光谱技术适用于薄膜的激光损伤测试中,并且是一种非常有效的测试分析方法.
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| 关 键 词： | 激光诱导击穿光谱 薄膜 激光烧蚀 激光诱导损伤 等离子体 光谱分析 温度 |
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