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| 直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度 | |
| 作者姓名： | 邹文祥 赖珍荃 |
| 作者单位： | 1. 南昌大学2. 南昌大学物理系 |
| 基金项目： | 纳米器件中表面界面行为与控制 |
| 摘 要： | 采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(11... |
| 关 键 词： | AlN薄膜 溅射气压 结构 表面粗糙度 |
| 收稿时间： | 2010-07-07 |
| 修稿时间： | 2010-08-19 |
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