首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     


AES depth profiles of thin SiC-layers – simulation of ion beam induced mixing
Authors:G. Ecke  H. Rößler  V. Cimalla  J. Liday
Affiliation:TU Ilmenau, Institut für Festk?rperelektronik, Postfach 0565, D-98684 Ilmenau, Germany, DE
Slovak Technical University, Microelectronics Department, Ilkovi ?ova 3, SL-81219 Bratislava, Slovakia, XX
Abstract:
Keywords:
本文献已被 SpringerLink 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号