| 工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响 |
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| 引用本文： | 张平余,刘洪,丛秋滋,张绪寿,王秀娥,顾则鸣. 工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响[J]. 摩擦学学报, 1991, 11(1) |
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| 作者姓名： | 张平余 刘洪 丛秋滋 张绪寿 王秀娥 顾则鸣 |
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| 作者单位： | 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放研究实验室 兰州(张平余，刘洪，丛秋滋，张绪寿，王秀娥)，中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放研究实验室 兰州(顾则鸣) |
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| 摘 要： | 本文考察了工艺参数对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN镀层性能的影响,并且研究了镀层的摩擦学性能与其物理机械性能及结晶学特征之间的关系。结果表明,当N/H比为1、Ti/N比为21、沉积温度为400℃和离化电压为1500V时,镀层具有较好的机械性能及耐磨性能。X—射线衍射分析表明,在本试验条件下所获镀层均为(200)面择优取向。作者指出,要制取理想的TiN镀层,离化电压应不低于1500V,沉积温度必须高于300℃。
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| 关 键 词： | 等离子体增强化学气相沉积 TiN镀层 物理机械性能 摩擦学性能 晶体学特征 沉积参数 |
The Influence of Processing Parameters on the Properties of PECVD TiN Coating |
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| Zhang Pingyu Liu Hong Cong Qiuzi Zhang Xushou Wang Xiue Gu Zeming. The Influence of Processing Parameters on the Properties of PECVD TiN Coating[J]. Tribology, 1991, 11(1) |
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| Authors: | Zhang Pingyu Liu Hong Cong Qiuzi Zhang Xushou Wang Xiue Gu Zeming |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD) TiN coating physic-mechanical properties tribological characteristic crys-tallinity deposition parameters |
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