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LPCVD自组织生长Si纳米量子点的发光机制分析
作者姓名:彭英才  稻毛信弥  池田弥央  宫崎诚一
作者单位:1.河北大学电子信息工程学院,河北 保定,071002;2.中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室 北京,100083;3.广岛大学电气工学系大学院先端物质科学研究科 广岛,日本
摘    要:采用低压化学气相沉积(LPCVD)方法,通过纯SiH4气体的表面热分解反应,在SiO2表面上自组织生长了半球状Si纳米量子点,在室温条件下实验研究了其光致发光(PL)特性,考察了PL效率与峰值能量随Si纳米量子点尺寸的变化关系。结果指出,当Si纳米量子点高度hc<5nm时,其PL效率基本保持不变。而当hc>5nm时,PL效率则急剧下降。同时,PL峰值能量随hc的减少而增大,并与(l/hc)2成正比依赖关系。如当hc从55nm减小至08nm时,其峰值能量从128eV增加到143eV,出现了约015eV的谱峰蓝移。我们用量子限制效应界面发光中心复合发光模型解释了这一实验结果。

关 键 词:Si纳米量子点  自组织生长  量子限制效应-界面中心复合发光
文章编号:1000-7032(2002)03-0261-04
收稿时间:2001-07-20
修稿时间:2001-07-20
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