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Oberflächenmodifikation mit orthogonalen photosensitiven Silanen zur sequenziellen chemischen Lithographie und ortsselektiven Partikelabscheidung |
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| Authors: | Ar nzazu del Campo,Diana Boos,Hans Wolfgang Spiess,Ulrich Jonas |
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| Keywords: | Monoschichten Oberflä chenchemie Photolithographie Silane |