富勒吡咯及其N-氧化物对双卟啉荧光的萃灭研究 |
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引用本文: | 徐华,杨溢,朱义州,郑健禺.富勒吡咯及其N-氧化物对双卟啉荧光的萃灭研究[J].中国化学,2006,24(11). |
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作者姓名: | 徐华 杨溢 朱义州 郑健禺 |
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作者单位: | 南开大学元素有机化学国家重点实验室; 天津 300071 |
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摘 要: | 本文合成了新型的亚苯基桥连双卟啉化合物(1~4)和富勒吡咯化合物(C60-m,
C60-h) 以及它们的N-氧化物(C60-mo, C60-ho)。通过稳态荧光光谱研究了在甲苯溶液中富勒吡咯及其N-氧化物对双卟啉化合物的荧光萃灭作用。通过稳态荧光光谱滴定法测定了双卟啉化合物和富勒烯衍生物之间的荧光萃灭常数并发现:富勒吡咯化合物的荧光萃灭能力随引入富勒烯表面功能基团数目的减少而降低: C60-h>C60-m > C60,并且发现富勒吡咯烷-N-氧化物对双卟啉的荧光萃灭能力比相应的富勒吡咯化合物增长了大约1.3~7.4倍。这些结果都说明通过改变富勒烯表面的功能基团可以调控双卟啉和富勒烯衍生物之间的光电子转移效率。
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关 键 词: | 卟啉 富勒烯 N-氧化物 荧光萃灭 光诱导电子转移 |
收稿时间: | 2006-3-27 |
修稿时间: | 2006-7-5 |
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