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Electron-beam chemical lithography with aliphatic self-assembled monolayers
Authors:Ballav Nirmalya  Schilp Soeren  Zharnikov Michael
Affiliation:Angewandte Physikalische Chemie, Universit?t Heidelberg, 69120 Heidelberg, Germany, Fax: (+49)?6221‐54‐6199
Abstract:
Keywords:electron beams  lithography  monolayers  polymer brushes  self‐assembly
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