| 氧化性与还原性气体对氧化铟及氧化铟锡(100)表面的修饰作用 |
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| 引用本文： | 陈苏,李嘉烨,吴金平.氧化性与还原性气体对氧化铟及氧化铟锡(100)表面的修饰作用[J].武汉大学学报(理学版),2009,55(3). |
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| 作者姓名： | 陈苏 李嘉烨 吴金平 |
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| 作者单位： | 中国地质大学,理论化学与计算材料科学研究所,湖北,武汉,430074 |
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| 摘 要： | 采用第一原理方法计算了氧化铟(In2O3)及氧化铟锡(ITO)材料中In2O3(100)和ITO(100)表面结构特征及氧化性气体O2和还原性气体NH3在该表面的成键机理、表面结构和表面电荷分布等性质.计算结果表明, In2O3及ITO薄膜表面的金属原子在优化过程中会向表面方向膨胀,而次外层氧原子则由于膨胀程度不同形成了两种配位环境的表层氧原子.吸附在表面上的O2分子对称轴平行于表面,由于表层金属原子d轨道电子流向O2的空π*反键轨道,在表面层中形成大量空穴,提高材料空穴注入效率,相反NH3中氮原子sp3杂化轨道电子流入表层金属原子的空轨道不利于材料提供空穴.
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| 关 键 词： | 氧化铟 氧化铟锡 表面修饰 密度泛函理论 |
Characterization and Modification of In2O3 and Indium (Tin) Oxide (100) Surfaces by Oxidizing and Reducing Gases |
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| CHEN Su,LI Jia-ye,WU Jin-ping.Characterization and Modification of In2O3 and Indium (Tin) Oxide (100) Surfaces by Oxidizing and Reducing Gases[J].JOurnal of Wuhan University:Natural Science Edition,2009,55(3). |
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| Authors: | CHEN Su LI Jia-ye WU Jin-ping |
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