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| 基质折射率对反常色散散射体散射特性的影响 | |
| 作者姓名： | 徐庆君 庄申栋 |
| 作者单位： | 山东省枣庄学院光电工程学院,枣庄学院光电工程学院 |
| 基金项目： | 山东省优秀中青年科学家科研奖励基金项目(2008BS01021);枣庄市科技攻关计划项目(201031-2);2008年枣庄学院科技计划项目 |
| 摘 要： | 基于Mie散射理论，给出了散射强度、散射截面及吸收截面的计算公式，并对不同基质中碳化硅材料在反常色散区中的散射特性进行了数值计算与理论分析。结果表明，在反常色散区中，随着基质折射率的增大，散射强度的峰位发生红移，峰值增大；散射截面和吸收截面的峰位发生红移，峰值减小，这为该材料在反常色散区中的光学理论、实验及应用方面提供了理论参考。 |
| 关 键 词： | 反常色散，Mie散射，散射强度，光学截面， SiC |
| 修稿时间： | 2011-06-14 |
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