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| 基于双光子直写的微纳光学器件研究进展 | |
| 作者单位： | 浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室,浙江 杭州 310027;之江实验室,浙江 杭州 311121;浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室,浙江 杭州 310027;之江实验室,浙江 杭州 311121 |
| 基金项目： | 高集成三维光子器件的超分辨并行激光加工;浙江省自然科学基金重大项目;之江实验室重大科研项目 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 激光直写 双光子直写 微纳光学器件 纳米光刻 高通量刻写 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |
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