中子引起的单粒子反转截面的Monte Carlo模拟计算 |
| |
作者姓名: | 李华 牛胜利 |
| |
摘 要: | 单粒子效应是蠹民粒子在电子元器件中通过时,靠民电子元器件的电离损伤,导致电子元器件的记录出错。考虑了10-20MeV中子与硅反应的主要反应道,利用Monte Cqrlo方法对中子射入硅器件器中引起的单粒子反转进行模拟,得到质子、α粒子的能量、角度分布。考虑带电粒子在硅片中引起的电离 损伤,对不同临界电荷在16K动态RAM硅片中有一个灵敏单克发生反转时,中子入射注量及相应在的单粒子反转截面,给出了反
|
关 键 词: | 反转截面 单粒子效应 蒙特卡洛模拟 中子 |
本文献已被 维普 等数据库收录! |
|