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过氧聚钨酸薄膜上光栅的制备
引用本文:阿布力孜·伊米提,伊藤公纪.过氧聚钨酸薄膜上光栅的制备[J].新疆大学学报(理工版),2002,19(1):72-74.
作者姓名:阿布力孜·伊米提  伊藤公纪
作者单位:[1]新疆大学化学与化工学院,新疆乌鲁木齐830046 [2]横滨国立大学环境科学研究中心,日本横滨市,240-8501
摘    要:用过氧聚钨酸(PPTA)水溶液,通过离心涂膜法在显微镜载玻片上制备了具有光滑表面且厚度为100nm的PPTA薄膜,利用PPTA薄膜在紫外光照下可研制光栅以及其它光学元件的薄膜材料,具有很高的利用价值。

关 键 词:过氧聚钨酸薄膜  光栅  双光束干涉曝光法  光集成回路  制备原理  离心涂膜法
文章编号:1000-2839(2002)01-0072-03
修稿时间:2001年4月22日

Fabrication of Diffraction Grating Based on the Peroxopolytungstic Acid Thin Film
Abliz YIMIT\,Kiminori Itoh\.Fabrication of Diffraction Grating Based on the Peroxopolytungstic Acid Thin Film[J].Journal of Xinjiang University(Science & Engineering),2002,19(1):72-74.
Authors:Abliz YIMIT\  Kiminori Itoh\
Institution:Abliz YIMIT\+1,Kiminori Itoh\+2
Abstract:The peroxopolytungstic acid (PPTA) thin films, thickness of 100nm, has a smooth surface easily formed from their aqueous solution on the glass slide by using the spin coating method. The concave diffraction grating on the film of PPTA is prepared by the double beam interference illumination. The results of the experiment show that this material has a widely applied prospect as diffraction grating and other optical element.
Keywords:peroxopolytungstic acid thin film  diffraction grating
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