光学递变介质制法简介

递变介质制法目前有十多种,各类化学气相沉积(CVD)法、补相法(分子填充法、费希尔法)、溶胶—凝胶法、离子注入法、中子轰击法、结晶挤压法、应力法、热离子交换法、场致离子分布法、共聚法、结晶生长法等,其中后四种较为常用。至于各种方法的优缺点,将分别在本文中介绍。