首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     


On a non-thermal atmospheric pressure plasma jet used for the deposition of silicon-organic films
Authors:Jan Schäfer  Florian Sigeneger  Rüdiger Foest  Detlef Loffhagen  Klaus-Dieter Weltmann
Affiliation:1.Leibniz Institute for Plasma Science and Technology e.V.,Greifswald,Germany
Abstract:
Keywords:
本文献已被 SpringerLink 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号