离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究 |
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作者单位: | ;1.北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室 |
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摘 要: | 利用离子束辅助沉积方法制备单层二氧化铪薄膜,对薄膜样品的折射率、吸收特性进行了研究。实验结果表明,薄膜特性与制备工艺参数有着密切的关系,沉积速率、烘烤温度、离子束流、氧气流量均对单层二氧化铪薄膜紫外光学特性有着不同程度的影响。实验分析了不同工艺因素对单层二氧化铪薄膜的影响,并且找到了在一定范围内的最佳工艺参数。针对可能对紫外波段造成较大散射吸收损耗的微观表面形貌,利用SEM分析了典型工艺因素对表面形貌的影响。
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关 键 词: | 二氧化铪薄膜 光学常数 离子束辅助沉积 SEM |
Research on the UV optical and surface property of HfO_2 film by Ion-assisted deposition |
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