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| 焦散线—光弹性方法原理及应用 | |
| 作者姓名： | 李承奇 顾绍德 |
| 作者单位： | 武汉工业大学,同济大学,武汉工业大学,湖北省建筑材料研究设计院 光测力学研究室 |
| 摘 要： | 本文介绍焦散线-光弹性方法,在一次曝光时,能记录焦散线和光弹性二种信息,具有光路简单,信息丰富等优点,利用实验结果不仅能确定断裂力学中的应力强度因子 K_I,而且进一步能分离裂尖附近的主应力分量,同时讨论了与该方法有关的一些问题。 |
| 关 键 词： | 焦散线法 光弹性法 应力强度因子 |
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