化学反应在发射光谱分析上的应用——Ⅲ、花岗岩中痕量Nb、Ta、W、Hf的同时测定 |
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引用本文: | 陈寿根,杨鹿佳.化学反应在发射光谱分析上的应用——Ⅲ、花岗岩中痕量Nb、Ta、W、Hf的同时测定[J].光谱学与光谱分析,1985(4). |
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作者姓名: | 陈寿根 杨鹿佳 |
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作者单位: | 冶金部地质研究所
(陈寿根),冶金部地质研究所(杨鹿佳) |
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摘 要: | 本方法系利用热化学试剂CdCl_2+AgCl在室电极内与岩石中的难挥发元素Nb、Ta、W、Hf发生化学反应,形成易挥发氯化物的办法,使这些元素的直接测定下限降低到ppm级(Nb、W—5ppm;Ta、Hf—8ppm)。测定的相对标准偏差,当浓度为50ppm时,不超过9%。鉴于Nb、Ta、Hf的矿物较其氧化物更难于被氯化的事实,标准样品应采用有正确分析结果的天然样品。
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