| 电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量杂质 |
| |
| 引用本文： | 岳晓云,蔡绍勤,邵荣珍,刘玉龙,鲁亦强. 电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量杂质[J]. 分析化学, 2001, 29(11): 1307-1310 |
| |
| 作者姓名： | 岳晓云 蔡绍勤 邵荣珍 刘玉龙 鲁亦强 |
| |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院,;北京科技大学 |
| |
| 摘 要： | 采用电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）测定高纯镓中痕量杂质元素,以Rh作为内标补偿校正镓基体的抑制效应,采用异丙醚萃取分离镓与ICP-MS技术联用,拓展分析方法应用范围,可满足99.9999%-99.99999%超高纯镓分析方法要求。方法检出限为0.006-0.062μg/L;加标回收率为86.8%-121.4%之间;RSD为1.1%-8.6%。
|
| 关 键 词： | 电感耦合等离子体质谱 高纯 镓 痕量杂质 基体效应 内标 溶剂萃取 |
Determination of Trace Impurities in High Purity Gallium by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Inductively coupled plasma mass spectrometry high purity gallium trace impurities matrix effect internal standard solvent extraction |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
