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反应气体H2O对Y2O3隔离层外延生长的影响
引用本文:张华,金薇,刘慧舟,杨坚. 反应气体H2O对Y2O3隔离层外延生长的影响[J]. 低温物理学报, 2008, 30(4)
作者姓名:张华  金薇  刘慧舟  杨坚
作者单位:北京有色金属研究总院超导材料研究中心,北京,100088
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划),国家高技术研究发展计划(863计划)
摘    要:
报道了用反应溅射的方法在有强立方织构的NiW基带上连续制备Y2O3隔离层的研究结果.用X射线θ~2θ扫描,ψ扫描对薄膜的取向和织构进行表征,用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面形貌进行观察.论文主要研究了H2O分压对Y2O3隔离层外延生长以及表面形貌的影响,结果表明:H2O分压过小,Y2O3织构相对衬底有所弱化,薄膜表面不透明,原子覆盖不均匀,且不利于后续隔离层YSZ的生长.同时,临界H2O分压与温度和总气压的关系也作了详细研究.

关 键 词:反应溅射  Y2O3隔离层  H2O分压  表面形貌

INFLUENCE OF WATER VAPOR ON EPITAXIAL GROWTH OF Y2O3 BUFFER LAYER
ZHANG Hua,JIN Wei,LIU Hui-zhou,YANG Jian. INFLUENCE OF WATER VAPOR ON EPITAXIAL GROWTH OF Y2O3 BUFFER LAYER[J]. Chinese Journal of Low Temperature Physics, 2008, 30(4)
Authors:ZHANG Hua  JIN Wei  LIU Hui-zhou  YANG Jian
Abstract:
Keywords:
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