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X射线光电子能谱技术在高分子材料摩擦化学研究中的应用
引用本文:石光,章明秋,容敏智,Klaus Friedrich.X射线光电子能谱技术在高分子材料摩擦化学研究中的应用[J].化学研究,2004,15(3):76-80.
作者姓名:石光  章明秋  容敏智  Klaus Friedrich
作者单位:华南师范大学化学系,广州,510631;中山大学,材料科学研究所,聚合物复合材料及功能材料教育部重点实验室,广州,510275;Institute for Composite Materials, University of Kaiserslautern, D-67663 Kaiserslautern, Germany
基金项目:德国大众基金会项目(VW StiftungNo.1/76645),国家自然科学基金项目(50133020).
摘    要:X射线光电子能谱技术(XPS)是材料表面分析的重要手段,其近年的快速发展促进了表面化学领域研究的深入.高分子及其复合材料在摩擦学性能方面具有普遍的优势,通过XPS对高分子及其复合材料摩擦表面的分析,可以确定摩擦过程的化学变化,并对改进材料的摩擦学性能起到理论的指导作用.作者主要介绍XPS技术的基本原理,及其在高分子与复合材料摩擦学性能研究中的应用.

关 键 词:X射线光电子能谱  结合能  摩擦化学  高分子材料
文章编号:1008-1011(2004)03-0076-05
修稿时间:2003年11月24

Application of XPS Technology in Polymer Tribochemical Study
SHI Guang,ZHANG Ming-qiu,RONG Min-zhi,Klaus Friedrich.Application of XPS Technology in Polymer Tribochemical Study[J].Chemical Research,2004,15(3):76-80.
Authors:SHI Guang  ZHANG Ming-qiu  RONG Min-zhi  Klaus Friedrich
Institution:SHI Guang~1,ZHANG Ming-qiu~2,RONG Min-zhi~2,Klaus Friedrich~3
Abstract:In this paper, the XPS technology was introduced in detail, at the same time the application of XPS in tribochemical study was reviewed. For XPS is an important surface analysis technology, its application in tribology field will become more and more important.
Keywords:XPS  binding energy  tribochemical  polymer material  
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