首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

WO3薄膜的电致变色与响应时间机理研究
引用本文:杨海刚,宋桂林,张基东,王天兴,常方高.WO3薄膜的电致变色与响应时间机理研究[J].人工晶体学报,2011,40(5):1316-1321.
作者姓名:杨海刚  宋桂林  张基东  王天兴  常方高
作者单位:河南师范大学物理与信息工程学院,新乡453007;河南省光伏材料重点实验室,新乡453007
基金项目:河南省重点科技攻关计划项目(102102210184); 河南省教育厅自然科学研究项目(2010B140008)
摘    要:采用直流反应磁控溅射方法制备了纳米WO3薄膜,研究了溅射气压对WO3薄膜的表面形貌和微结构的影响.利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜对WO3的微结构进行了表征.采用紫外-可见分光光度计和循环伏安测试系统对样品的电致变色及响应时间性能进行了研究.结果表明,纳米WO3薄膜的微孔结构特征具有较大的比表面积,有利于改善其电致变色性能.当溅射气压为4Pa时,WO3薄膜在可见光区的电致变色平均调色范围达到了71.6;,并且其着色响应时间为5 s,漂白响应时间为16 s.

关 键 词:WO3薄膜  磁控溅射  电致变色  响应时间  

Response Time and Electrochromic Mechanism of WO_3 Films
YANG Hai-gang,SONG Gui-lin,ZHANG Ji-dong,WANG Tian-xing,CHANG Fang-gao.Response Time and Electrochromic Mechanism of WO_3 Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2011,40(5):1316-1321.
Authors:YANG Hai-gang    SONG Gui-lin  ZHANG Ji-dong  WANG Tian-xing  CHANG Fang-gao
Institution:YANG Hai-gang1,2,SONG Gui-lin1,ZHANG Ji-dong1,WANG Tian-xing1,CHANG Fang-gao1,2 (1.College of Physics and Information Engineering,Henan Normal University,Xinxiang 453007,China,2.Henan Key Laboratory of Photovoltaic Materials,China)
Abstract:Nanoscaled tungsten oxide films were fabricated by reactive DC magnetron sputtering.The influence of deposition gas pressure on surface morphology and microstructure of tungsten oxides was studied.X-ray diffraction(XRD) and scanning electron microscopy(SEM) were utilized to characterize the micro-structural of the prepared thin films.Electrochromic and response time properties were researched by simultaneous spectrophotometric and cyclic voltametric measurements of tungsten oxides.The investigation results ...
Keywords:WO3 thin films  magnetron sputtering  electrochromism  response time  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《人工晶体学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号