首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

空心阴极(HCD)离子镀及其在工具工业中的应用(续完)
引用本文:小宫宗治.空心阴极(HCD)离子镀及其在工具工业中的应用(续完)[J].摩擦学学报,1983,3(2).
作者姓名:小宫宗治
作者单位:日本
摘    要:十、HCD反应沉积的氮化钛膜 HCD反应沉积氮化钛膜的镀膜条件可反映所镀氮化钛膜的色泽特征,如佐藤等人通过控制N_2、H_2的分压得到了各种颜色的膜。金色的膜经X线衍射分析可知是由Ti_2N或TiN+Ti_2N组成的。这种膜的硬度大于或等于2000公斤/毫米~2(DPHN)。 该膜的镀膜典型参数如下:氩气流为23厘米~3/分(标准温度、压强),氩分压为7.4×10~(-4)托,放电参数为40伏、80安培,靶距为14厘米,膜的典型沉积率为0.25微米/分。氮气

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
点击此处可从《摩擦学学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《摩擦学学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号