| Al膜平整度对硅基AAO有序度的影响 |
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| 引用本文： | 李芹,张海明,胡国锋,高波,朱彦君,李菁.Al膜平整度对硅基AAO有序度的影响[J].武汉大学学报(理学版),2011,57(1). |
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| 作者姓名： | 李芹 张海明 胡国锋 高波 朱彦君 李菁 |
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| 作者单位： | 天津工业大学,理学院,天津,300160 |
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| 基金项目： | 天津市自然科学基金(09JCYBJC04400)资助项目 |
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| 摘 要： | 利用真空电子束蒸发技术,通过改变Al的蒸发速率在P型〈1 0 0〉晶向的单晶硅片上制备了两种不同平整度的Al膜,在草酸中对它们分别进行一次阳极氧化,研究Al膜平整度对硅基AAO(多孔硅基氧化铝)有序度的影响.结果表明,硅基AAO的有序度对Al膜的平整度有很大的依赖性,硅基Al膜的平整度越高,所获得的硅基AAO的有序度就越好.另外,对平整度较差的Al膜进行二次阳极氧化可以显著地改善硅基AAO的有序度.
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| 关 键 词： | 硅基AAO(多孔硅基氧化铝) 平整度 二次阳极氧化 有序度 |
Effect of Flatness of Al Film on Fabrication of AAO Template on Silicon Substrate |
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| LI Qin,ZHANG Haiming,HU Guofeng,GAO Bo,ZHU Yanjun,LI Jing.Effect of Flatness of Al Film on Fabrication of AAO Template on Silicon Substrate[J].JOurnal of Wuhan University:Natural Science Edition,2011,57(1). |
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| Authors: | LI Qin ZHANG Haiming HU Guofeng GAO Bo ZHU Yanjun LI Jing |
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| Institution: | LI Qin,ZHANG Haiming,HU Guofeng,GAO Bo,ZHU Yanjun,LI Jing(School of Science,Tianjin Polytechnic University,Tianjin 300160,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | anodic aluminum oxide(AAO) on silicon substrate flatness two-step anodization degree of order |
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