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| 矩底拱面状微透镜阵列的氩离子束刻蚀 | |
| 引用本文： | 张新宇,易新建.矩底拱面状微透镜阵列的氩离子束刻蚀[J].强激光与粒子束,1998,10(3):445-448. |
| 作者姓名： | 张新宇 易新建 |
| 作者单位： | 华中理工大学光电子工程系 |
| 基金项目： | 国家863信息获取与处理技术领域资助 |
| 摘 要： | 在ＺｒＯ２、ＩｎＰ、Ｓｉ及ＳｉＯ２即融凝石英衬底上用氩离子束刻蚀制作面阵矩底拱面状微透镜阵列，给出了氩离子束在不同的入射角度下刻蚀器件的速率与离子束能量之间的关系。实验表明，用国产ＢＰ２１２紫外正型光刻胶制作的光致抗蚀剂掩膜图形在经过优化的工艺条件下可以通过氩离子束刻蚀将预定图形转移到衬底材料中。 |
| 关 键 词： | 离子束刻蚀 微透镜阵列 矩底拱面 |
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