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| 无光刻法制备Bi2Sr2CaCu2O8＋x单晶内禀结 | |
| 作者姓名： | 靳敏 单文磊 |
| 作者单位： | 南京大学电子科学与工程系微结构科学技术高等研究中心 |
| 摘 要： | 我们发展了一种简易的、无光刻法制备Ｂｉ２Ｓｒ２ＣａＣｕ２Ｏ８＋ｘ单晶内禀结的新型工艺，制备过程简单，重复性好，成功率高，结面积在２０μｍ×２０μｍ～８０μｍ×８０μｍ之间．同时，我们测量了内禀结的直流Ｉ～Ｖ特性，得到了具有多路电阻分支的内禀约瑟夫逊直流Ｉ～Ｖ特性曲线 |
| 关 键 词： | 高Tc 超导体 无光刻法 工艺 BSCCO 单晶内禀结 |
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