| 三价铬电沉积的动力学数学模型 |
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| 引用本文： | 李保松,林安,甘复兴.三价铬电沉积的动力学数学模型[J].武汉大学学报(理学版),2007,53(2):184-188. |
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| 作者姓名： | 李保松 林安 甘复兴 |
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| 作者单位： | 武汉大学,资源与环境科学学院,湖北,武汉,430079 |
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| 摘 要： | 系统分析了三价铬电沉积阴极各反应间的逻辑关系，采用数学方法推导了三价铬电沉积速度与镀液Cr^3＋浓度、搅拌（对流）强度、温度等因素的相互关系，建立了三价铬电沉积动力学数学模型．从所建模型可知，三价铬电沉积第一步反应（Cr^3＋→Cr^3＋）的电流密度受液相传质步骤控制，强搅拌下此反应可生成更多的Cr^2＋，但同时也加速了Cr^2＋从电极表面向镀液本体的扩散．Cr^2＋的还原（Cr^2＋→Cr^o）是整个三价铬电沉积过程的速度控制步骤，其电流密度与镀液扩散状况无关．选择合适的配体，加速Cr^2＋的电荷转移是提高三价铬电沉积质量的关键．
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| 关 键 词： | 三价铬电沉积 数学模型 动力学 极限电流密度 |
| 文章编号： | 1671-8836(2007)02-0184-05 |
| 修稿时间： | 2006年10月21 |
Kinetics Mathematics Model of Trivalent Chromium Electrodeposition |
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| LI Baosong,LIN An,GAN Fuxing.Kinetics Mathematics Model of Trivalent Chromium Electrodeposition[J].JOurnal of Wuhan University:Natural Science Edition,2007,53(2):184-188. |
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| Authors: | LI Baosong LIN An GAN Fuxing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | trivalent chromium electrodeposition mathematics model kinetics limited current density |
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