| 电子束刻蚀法制作微米/亚微米云纹光栅技术 |
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| 引用本文： | 谢惠民,戴福隆,岸本哲,张维.电子束刻蚀法制作微米/亚微米云纹光栅技术[J].光学技术,2000,26(6):526-528. |
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| 作者姓名： | 谢惠民 戴福隆 岸本哲 张维 |
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| 作者单位： | 1. 清华大学,工程力学系,北京,100084
2. 清华大学 |
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| 基金项目： | 国家教育部清华大学结构与振动开放实验室基金资助项目；
日本科学技术厅STA基金资助项目 |
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| 摘 要： | 本文应用电子束刻蚀技术并结合真空镀膜技术提出了制作电子束云纹光栅的新方法。首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺。所制得的光栅可在两频率下应用电子束云纹法测量物体的变形。同一般光栅相比 ,这种双频光栅变形量程范围更大。在本研究中 ,运用电子束刻蚀法并结合真空镀膜技术制作出 0 .1μm间距 ( 10 0 0 0线 /mm光栅 )的电子束云纹光栅。应用所制作的 10 μm/1μm双频光栅与相对应的电子束参考栅干涉 ,分别得到对应的电子束云纹场。文中对制栅工艺及方法进行了详细的讨论。
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| 关 键 词： | 电子束刻蚀法 电子束云纹法 高频光栅 变形测量 |
| 修稿时间： | 2000-02-20 |
Fabrication of the micro/sub-micron Moire gratings using electron beam lithography method |
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| XIE Hui-min,DAI Fu-long,S Kishimoto,ZHANG Wei.Fabrication of the micro/sub-micron Moire gratings using electron beam lithography method[J].Optical Technique,2000,26(6):526-528. |
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| Authors: | XIE Hui-min DAI Fu-long S Kishimoto ZHANG Wei |
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| Institution: | XIE Hui min 1,DAI Fu long 1,S Kishimoto 2,ZHANG Wei 2 |
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| Abstract: | In combination of the electron beam lithography techniques with the vacuum deposition method, this paper proposed a new method to produce the double frequencies gration with three deposited layers As an example, a 100 lines/mm and 1000 lines/mm double frequency gratin was manufactured in a stainless steel surface In addition, a 10000 lines/mm grating using two deposited layers method was successfully fabricated using Nippon Zeon e beam resist and electron beam lithography method |
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| Keywords: | electron beam lithography electron beam Moire method high frequency grating deformation measurement |
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