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掺硫和在不同温度下InP的正电子湮没研究
作者姓名:黄懋容  王蕴玉  杨巨华  何永枢  郭应焕  孙同年
作者单位:中国科学院高能物理研究所,电子工业部第十三研究所
摘    要:用正电子湮设方法研究了掺硫的InP载流于浓度(n)、迁移率和温度对空位浓度的影响,并讨论了它们对空位浓度影响的机理.探讨了空位类型.

关 键 词:正电子湮没  InP半导体  温度
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