| MgO和Si上NbN超薄薄膜的生长研究 |
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| 引用本文： | 李阳斌,康琳,昌路,吴培亨.MgO和Si上NbN超薄薄膜的生长研究[J].低温与超导,2007,35(6):498-500. |
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| 作者姓名： | 李阳斌 康琳 昌路 吴培亨 |
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| 作者单位： | 南京大学电子科学与工程系超导电子学研究所,南京,210093;南京大学电子科学与工程系超导电子学研究所,南京,210093;南京大学电子科学与工程系超导电子学研究所,南京,210093;南京大学电子科学与工程系超导电子学研究所,南京,210093 |
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| 基金项目： | 国家“973”、“863”计划项目(2006CB601006、2006AA22120)支持 |
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| 摘 要： | 我们在单晶MgO(100)、Si(100)和SiOx/Si基片上成功生长了纳米厚度的超薄NbN薄膜,利用现代分析手段:X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)等技术分析研究了所制备的超薄NbN薄膜的微观结构、厚度、表面界面情况等物理特性。研究表明,在MgO(100)基片上获得了外延生长的单晶NbN超薄薄膜,在Si(100)和SiOx/Si基片上获得的是多晶NbN超薄薄膜。厚度均约6nm左右。这些超薄薄膜的超导转变温度分别为:MgO上薄膜是14.46K,Si和SiOx上薄膜分别是8.74K和9.01K.
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| 关 键 词： | NbN 超薄薄膜 外延生长 |
| 修稿时间： | 2007年9月17日 |
The study on the superconducting NbN nano-films on MgO and Si substrates |
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| Li Yangbin,Kang Lin,Chang Lu,Wu Peiheng.The study on the superconducting NbN nano-films on MgO and Si substrates[J].Cryogenics and Superconductivity,2007,35(6):498-500. |
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| Authors: | Li Yangbin Kang Lin Chang Lu Wu Peiheng |
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| Abstract: | We have fabricated successfully NbN nano-films on the monocrystalline MgO(100),Si(100) and SiOx/Si substrates.X-rays diffusion(XRD),transmission electron microscopy(TEM) and atomic force microscopy(AFM) are used to characterize the films,showing a monocrystalline structure and confirming epitaxial growth on the MgO(100) substrate,a polycrystalline structure on the Si(100) and SiOx/Si substrates.The films on the MgO(100),Si(100) and SiOx/Si substrates with a thickness of ~6nm,show the superconducting transition temperature of 14.46K,8.74K,and 9.01K,respectively. |
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| Keywords: | NbN Nano-film Epitaxial growth |
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