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等离子体蚀刻中离子轰击对氟化硅表面层的影响

引用本文：	甘德昌.等离子体蚀刻中离子轰击对氟化硅表面层的影响[J].等离子体应用技术快报,1995(2):18-19.

作者姓名：	甘德昌

摘要：
关键词：	等离子体蚀刻氟化硅离子轰击半导体器件
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