C72衍生物C72X4(X=H,F,Cl)的理论研究 |
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作者姓名: | 沈洪涛 刘丽影 王东来 翟玉春 |
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作者单位: | 东北大学材料与冶金学院;鞍山师范学院化学系 |
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基金项目: | 辽宁省教育厅高等学校科学研究资助项目(2009A784) |
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摘 要: | 在混合密度泛函B3LYP理论下,用6-31G*基函数对富勒烯C72及其衍生物C72X4(X=H,F,Cl)进行了几何构型优化。计算了分子静电势、前线轨道能级差、反应能、核独立化学位移(NICS)和振动频率。计算结果表明,C72(#11188)球外负静电势出现在一对相邻五边形公共顶点以及两个六边形-五边形-六边形公共顶点区域,这些点即为化学反应中最可能的活性点;C72X4均是势能面上的稳定驻点;C72X4的能隙比C72大,这些加成反应都是放热的,并且具有很强的芳香性。因此它们都有可能合成出来。
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关 键 词: | 密度泛函理论 C72 C72X4 电子结构 稳定性 |
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